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立足先进工艺Signoff
打造τ-Aware工具框架

当芯片设计进入后摩尔时代,τ(时间常数)作为统一度量。行芯以经过量产验证
的Signoff为根基,将签核级精度前移至设计全流程,打造τ-Aware工具框架。

后摩尔时代 EDA 技术场景

引领后摩尔时代的
EDA 技术演进

以自主创新为核心驱动力,构建面向下一代芯片设计的智能化 EDA能力体系。

全流程签核 EDA 产品组合

面向先进工艺芯片设计

提供统一、高精度、高效率的全芯片 EDA 工具链,赋能全球领先芯片设计企业。

行芯科技新品发布

新品发布
助力 τ-Aware设计流程

GloryGrid® 与 GloryET® 正式发布,覆盖早期供电网络评估优化与签核收敛
ECO,进一步提升设计全流程协同效率。

应用场景

面向先进工艺PDK开发、高端芯片与3DIC异构集成,提供覆盖RC提取、时序、功耗、电源及热仿真的全链路电签核方案。

先进工艺PDK开发

先进工艺PDK开发

• 实现高保真3D工艺模型建立 、器件级高精度寄生参数提取、EM检查规则全流程开发... • 适用于FinFET、GAA先进工艺PDK开发、晶圆厂PEX精度验证与认证、Fabless PDK适配与优化等场景

3DIC 电签核

3DIC 电签核

• 实现任意堆叠寄生抽取与建模、电源完整性与电迁移签核、功耗-热耦合多物理分析... • 适用于GPU/AI大算力3D堆叠芯片、多工艺多Fab异构集成SoC、HBM高带宽存储堆叠芯片电签核需求

高端芯片电签核

高端芯片电签核

• 实现全芯片RC寄生参数提取、电源完整性与电迁移签核、静态时序分析签核... • 适用于AI 训练/推理芯片、高性能CPU/GPU芯片 、5nm、3nm、GAA等先进节点芯片设计的电签核需求

专注先进工艺,引领EDA革新

杭州行芯科技有限公司(简称”行芯科技”),立足先进工艺Signoff,打造τ-Aware工具框架。公司以时间常数τ=RC第一性原理为物理锚点,依托自研Signoff一体化平台,将Signoff能力前置到设计全流程,落地DTCO设计与工艺协同优化,系统性解决时序、寄生提取、电热耦合、电源完整性、可靠性等Signoff难题,助力芯片实现PPA协同优化,推动芯片设计从经验驱动到数据驱动的范式转移。

300+团队规模
85%研发人员占比
60%硕博占比
现代芯片研发与制造环境

携手构建高端芯片设计的未来

获取产品评估、流程接入与技术支持,开启面向先进工艺的工程协作。